2011年秋・冬号
ブラジル、ロシア、インド、中国での特許出願は簡単ではないかもしれないが、知的財産を保護するためには不可欠のステップである。
By: D’vorah Graeser, Graeser Associates International, Chicago, IL, USA
大阪大学大学院理学研究科の原田明教授らは、光照射により分子の形が変わる「ゲスト分子」と、そのゲスト分子と結合する「ホスト分子」をそれぞれ固定した別々のゲルに導入して、これらのゲルがホスト −ゲスト相互作用の強さに応じて特異的に接着し、紫外線を照射すると離れ、可視光線を照射すると再接着する材料集積システムを開発した。